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報告書

トムソン散乱法により測定されたJFT-2Mトカマクプラズマの電子温度・密度特性

山内 俊彦; 柳沢 一郎*; 小田島 和男; 松本 宏; 荘司 昭朗; 森 雅博; 玉井 広史; 小川 俊英; 松田 俊明; 鈴木 紀男; et al.

JAERI-M 84-206, 22 Pages, 1984/11

JAERI-M-84-206.pdf:0.9MB

トムソン散乱測定装置を駆使してJFT-2Mトカマクプラズマの電子系の特性を明らかにした。まずチタンゲッタリングおよびプラズマ電流を上げることにより電子密度の空間分布ne(r)が広がることを示した。そしてICRF加熱効率にne(r)の制御が重要であることを述べた。次にジュール加熱プラズマのスケーリング(Te$$alpha$$Ip,TeEおよびTEG$$alpha$$ne,(ne,Te)$$alpha$$PIN$$^{0}$$$$^{.}$$$$^{7}$$$$^{5}$$)を実験的に求めそれらをICRF加熱プラズマに適用した。その結果ICRF加熱プラズマでは近似的に同様のスケーリングが成り立つことを実験的に示した。そしてICRF加熱プラズマはジュール加熱プラズマと比べNBI過熱プラズマで生ずるような閉じ込め特性の悪化がないことを明らかにした。

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